采用動態(tài)離心分離原理，確保研磨介質(zhì)與物料的無障礙分離，出料順暢，最小可使用0.03mm研磨介質(zhì)，實現(xiàn)100nm以下的物料研磨，可以達到納米化幾何尺寸的極限。在線咨詢應(yīng)用領(lǐng)域正極材料、負(fù)極材料、陶瓷材料、納米二氧化鈦、MLCC、數(shù)碼噴墨、油墨材料、拋光材料、LCD等納米材料。 琥崧優(yōu)勢研磨區(qū)域能量密度高物料粒徑分布窄物料細(xì)度可達100納米最小可使用粒徑0.1mm研磨介質(zhì)
